[자연과학]재료Engineering 기초 test(실험) - 광학현미경 조직검사 및 시편준비
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작성일 23-09-20 15:53
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etching은 화학조성 응력 결정구조 등에 따라 방법이 다른데 가장 일반적인 방법은 화학부식 방법이며 목적에 따라 용융염방법, 전해부식, 열 및 plasma 부식 방법 등이 쓰인다.
Etching은 방식에 따라 크게 wet etching과 dry etching로 구분한다. wet etching는 금속 등과 반응하여 부식시키는 산 계열의 화학약품을 이용하여 PR pattern이 없는 부분을 녹여 내는 것을 말…(To be continued )
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다.
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실험과제/재료
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재료工學(공학) 기초 experiment(실험) - 광학현미경 조직검사 및 시편준비
목 차
1. etching이란 무엇인가
2. 광학현미경의 이론(理論)
3. experiment(실험)결과
4. 토의사항 및 문제
5. 논의 및 고찰
6.참고 문헌
1. etching이란 무엇인가
Etching의 기본 목적은 광학적으로 Grain크기, 상 등의 미세조직을 觀察하기 위한 과정이다. 용융염 부식은 열 및 화학 부식의 복합 기술이다. 본 experiment(실험)에서 사용한 etching 방법은 가장 일반적인 화학부식 방법인 Nital을 사용하였다,
화학 부식은 가장 일반적으로 쓰이며 산이나 염기의 선택 부식 성질을 이용한 것이다. 전해부식은 전류와 전압을 조절하여 전기 화학적인 부식을 하는 것이고, 열 부식 재료의 온도보다 낮은 온도에서 가열 유지시키는 부식 기술이다.
