삼성전자, 채널구조 3배 improvement(개선) `TFT 신기술` 개발
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작성일 23-03-07 23:50
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비정질 산화물 TFT 기술은 현재 양산 적용중인 비정질 실리콘 TFT를 대체할 수 있는 차세대 기술이다. 이 회사의 김영환 전무는 “중장기적으로 future 형 디스플레이외에도 반도체 주변회로까지 응용을 확대해 향후 반도체 소자의 core 기술로 발전시켜 나갈 수 있을 것”이라고 말했다.
삼성전자가 차세대 디스플레이·반도체 소자에 폭넓게 쓸 수 있는 ‘비정질 산화물 박막트랜지스터(TFT)’ 신기술을 개발하는데 성공했다. 또한 TFT를 동작시키는 ‘문턱전압’도 함께 제어, 각종 반도체 센서에도 연계할 수 있도록 했다.
삼성전자는 이 기술을 현재 LCD 패널외에도 AM OLED, 플렉서블 디스플레이, 투명 디스플레이, 태양전지, LED, 센서 등에 폭넓게 적용할 수 있을 것으로 기대했다.
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한편 삼성SDI도 지난 5월 비정질 산화물 TFT 기술을 적용한 세계 최고 해상도의 AM OLED 패널을 세계 처음 개발하는데 성공한 바 있다
삼성전자는 최근 종합기술원에서 비정질 산화물 TFT 신기술을 개발하는데 성공, 15일(현지시각) 미국 샌프란시스코에서 열린 ‘2008 세계전자소자학회(IEDM)’서 발표한다. 특히 이번 비정질 산화물 TFT 기술은 현재 LCD 패널 양산 공정을 그대로 활용하는 동시에 주변 회로를 패널에 내장함으로써 제조 원가를 크게 낮출 수 있다
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서한기자 hseo@etnews.co.kr
삼성전자, 채널구조 3배 improvement(개선) `TFT 신기술` 개발
삼성전자, 채널구조 3배 improvement(개선) `TFT 신기술` 개발
삼성전자, 채널구조 3배 개선 `TFT 신기술` 개발
삼성전자, 채널구조 3배 개선 `TFT 신기술` 개발
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다. 전자 이동도가 향상되면 디스플레이·반도체 소자의 화질과 처리용량을 동시에 改善(개선) 할 수 있다 평판 디스플레이의 해상도가 풀HD급을 넘어 최근 초고화질(UD)급 해상도로 발전해가는 추세에서 대용량 데이터 처리에 따른 화면 구동 속도 지원이 가능하다. 이 기술은 기존 산화물 TFT의 단일 채널 구조를 이중 채널 구조로 바꿔 전자 이동도를 종전보다 3배 이상 높은 최고 130㎠/V·sec 수준으로 구현했다. 고성능 소자를 종전보다 낮은 제조 비용으로 양산할 수 있으며, 특히 LCD는 물론 능동형(AM) 유기발광다이오드(OLED), 박막 태양전지, 발광다이오드(LED), 센서 등에도 광범위하게 응용할 수 있다 삼성전자가 future 기술을 선점한 것으로 평가된다.
